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期刊


ISSN0913-5685
刊名電子情報通信学会技術研究報告
参考译名电子信息通信学会技术研究报告：可靠性
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2010, vol.110, no.99

题名作者出版年年卷期
ガラス上に形成された大粒径を有する低温poly-Si_(1-x)Ge_x薄膜トランジスタの開発岡部泰典; 近藤健二; 広瀬研太; 鈴木順季; 北原邦紀; 原明人20102010, vol.110, no.351
裏面からのレーザー照射による2層同時結晶化LTPS-TFTメモリの特性評価松江将博; 市川和典; 赤松浩; 山崎浩司; 堀田昌宏; 浦同行治20102010, vol.110, no.351
Poly-Si TFTによるデバイスレベルのニューラルネットワーク－複数回の学習とAND·OR·EXORの学習宮谷友彰; 藤田悠佑; 三島大樹; 谷口仁; 笠川知洋; 木村睦20102010, vol.110, no.351
Siゲートを持つDNA電界効果トランジスタに関する研究高城祥吾; 松尾直人; 山名一成; 部家彰; 高田忠雄; 坂本憲児; 横山新20102010, vol.110, no.351
高圧水蒸気熱処理によるa-In_2Ga_2Zn_1O_7 TFTの特性改善効果丸山智己; 藤井茉美; 笠見雅司; 矢野公規; 堀田昌宏; 石河泰明; 浦岡行治20102010, vol.110, no.351
多原子分子イオンビームによるシリコン表面照射効果竹内光明; 龍頭啓充; 高岡義寛20102010, vol.110, no.351
ホトルミネセンス法およびDLTS法によるシリコン極浅接合の再結晶化過程の評価奥谷真士; 高島周平; 吉本昌広; Woo Sik Yoo20102010, vol.110, no.351
結晶系シリコン太陽電池におけるドーパントプレカーサー制御によるレーザードーピングプロセスの最適化舟谷友宏; 平田憲司; 高山環; 長谷川光洋; 冬木隆20102010, vol.110, no.351
多結晶シリコン太陽電池の作製における室温レーザードーピング長谷川光洋; 平田憲司; 高山環; 舟谷友宏; 冬木隆20102010, vol.110, no.351
X線検出素子（Silicon Drift Detector）用Si基板の高抵抗率化－シミュレーションによる評価北野谷征吾; 西川誠二; 松浦秀治20102010, vol.110, no.351
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